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雄山株式会社は正式にTamar社の輸入販売代理店となりました

  1. 非接触リアルタイム光学式表面プロファイラー HRT3000NEW
  2. コンフォーカルイルミネーション EtherGlowNEW
  3. Field of View測定ソフトウエア ATMeasureNEW
  4. クリティカルディメンジョン測定システム CDMeasureNEW
  5. ウェハ表面欠陥測定システム WaferInspectNEW
  6. 非接触光学式ウェハスキャンシステム WaferscanNEW


1. HRT3000NEW
HRT3000
・ 非接触式、リアルタイム光学式表面プロファイラー
・ 色共焦点方式 (特許出願中)
・ 様々なジャンルの表面の地形(粗さ、反射率)を計測
   トレンチ()の深さを計測
  MEMSなどに存在するの浅い深さのトレンチも計測可
・ AFM(原子間力顕微鏡 *)、三角測量システム(*2)、光干渉
  計測器
(*3)などの何れもシステムでは出来ない高いアスペ
  クト比のトレンチを測定
   一点焦点計測式で、Z軸の動作が不要
・ 白色光干渉計のみ、アスペクト比の高い段差を測定できる
  が、測定速度が遅く、振動の影響が受け
やすい
・ 測定分解能やレンジは対物レンズの交換によって変更
   スキャンレンジ 50?m 2000?m 分解能 0.03?m 1?m

※ 他のアプリケーション例
   BGA(Ball Grid Array) 共平面性/高さ測定、ウエハ上のマイクロ
   バンプ、
LCDパネル平坦度/層の厚さ、MEMSと分離トレンチ、
   ハードディスクドライブヘッド上のエッチ深さ
etc



2. EtherGlowNEW
EtherGlow
・ Tamar社パテント技術
・ 独自コンフォーカル(共焦点*4)イルミネーションと使用
   背面から光照射
・ あらゆる方向のライト照射を実現
 → XYZ方向の画層品質を向上
   画像取り込み用光ファイバーを使用
・ 高価なケーラー照明(*5)にとって変わる技術
EtherGlowT
  オールブランドの顕微鏡や対物レンズに対応
EtherGlowRM
  ミツトヨ製の長焦点距離用(ULWD)対物レンズに対応
  (ULWD 5X10X20X50X)



3. ATMeasureNEW
ATMeasure
・ Field of View 測定ソフトウエア
   MEMS、半導体、ファイバー業界へ高精度なアプリケー
  ションを提供
・ 測定内容(例)
  線幅、平行度、真直度、直径、真円度、2点間距離、
  ケーブルの同心度 Etc
・ 倍率別のキャリブレーションが保存可能









4. CDMeasureNEW

CDMeasure
クリティカルディメンジョン(CD:限界寸法)測定システム
サブミクロンスケールに対応
高精度、高分解能測定
  光の強度より、CD、エッジ部の寸法測定可
・ オートフォーカス、オートライティング機能搭載
  ターンキーシステムとして利用可
・ 各種顕微鏡への組み込みも可能
  (Nanoline, Micro-Metric, Olympus, Nikon, Leica, Zeiss)
・ 倍率別のキャリブレーションが保存可能
  ( Golden Part 補正)
・ ウエハ自動ハンドリング機能あり(オプション品)
・ 測定例
  ウエハCD、マスクCDMEMSジオメトリック、FPDなど



5. WaferInspectNEW
WaferInspect
オートマチック式 ウエハ表面欠陥測定システム
サブミクロンスケールに対応
高精度、高分解能測定
・ オートフォーカス、オートライティング機能搭載
・ スピーディな欠陥測定を実現
  ターンキーシステムとして利用可
・ 各種顕微鏡への組み込みも可能
  (Nanoline, Micro-Metric, Olympus, Nikon, Leica,
  Zeiss)
・ Golden Part補正
・ ユーザで定義したルールで、欠陥を分類
・ 倍率別のキャリブレーションが保存可能
・ ウエハ自動ハンドリング機能あり(オプション品)
・ 欠陥検出対象 例
 スクラッチ、コンタミ、プローブの跡、オーバーレイ、
 金属化/皮膜形成(metallization)、ダイの欠陥など
・ アプリケーション 例
  SiGaAsSiC、サファイア、MEMS、マイクロフルイデ
  ィクス、バイオチップなど



6. WaferscanNEW
WaferScan
非接触_光学式 ウエハスキャン(厚さ、反り)システム
低コスト 高パフォーマンス
・ 色共焦点方式 (特許出願中)
  非接触式、サンプルへのダメージは最小減
  長いワーキングディスタンスを確保
・ ターンキーシステムとして利用可
・ 簡便なソフトウエア操作 (Point and Click)
・ 3Dマッピング表示 (ポイント数:数百〜数千)
  20?m 100mm (公称値)厚さの基板にて測定可能
・ 測定時間 3090/ (選択可)
・ ウエハサイズ 全てのウエハサイズ対応
・ ステージサイズのカスタムメイド可 (オプション)
  ウエハ自動搬送 (オプション)
  測定アプリケーション
  ウエハ基板厚さ/反り、MEMS基板厚さ、
  ウエハ裏面研磨中の厚さ、CMP処理後の厚さ、
  LCDパネル厚さ/反り など



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