オートマチック式 ウエハ表面欠陥測定システム
サブミクロンスケールに対応
高精度、高分解能測定
・ オートフォーカス、オートライティング機能搭載
・ スピーディな欠陥測定を実現
・ ターンキーシステムとして利用可
・ 各種顕微鏡への組み込みも可能
(Nanoline, Micro-Metric, Olympus, Nikon,
Leica,
Zeiss)
・ “Golden Part”補正
・ ユーザで定義したルールで、欠陥を分類
・ 倍率別のキャリブレーションが保存可能
・ ウエハ自動ハンドリング機能あり(オプション品)
・ 欠陥検出対象 例
スクラッチ、コンタミ、プローブの跡、オーバーレイ、
金属化/皮膜形成(metallization)、ダイの欠陥など
・ アプリケーション 例
Si、GaAs、SiC、サファイア、MEMS、マイクロフルイデ
ィクス、バイオチップなど